二氧化硅拋光液的粒度更細(xì)，因此其拋光效果更加平滑，適用于需要高精度的拋光作業(yè)，如各類顯示屏、手機(jī)部件、藍(lán)寶石、不銹鋼、單晶硅片等領(lǐng)域的表面超精密加工。同時，由于其良好的分散性和選擇性，二氧化硅拋光液在化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）技術(shù)中也有著廣泛的應(yīng)用。
        氧化鋁拋光液則因其較強(qiáng)的切削力，更適合需要快速去除量的工件拋光。 氧化鋁拋光液的粒度相對較粗，能夠快速去除工件表面的材料，提高拋光效率。因此，氧化鋁拋光液廣泛應(yīng)用于需要較高去除速率的場合，如氧化鈰主要用于玻璃拋光，金剛石與氧化鋁主要用于高硬度晶體的拋光。

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