硅溶膠拋光液主要是納米級工藝，主要粒徑10-150nm，各類產品鏡面處理都可以使用，常用于平面研磨配合二氧化硅拋光液做鏡面的材質有硅膠片表面拋光、光學晶體鏡面、精密電子金屬元件、藍寶石玻璃、顯示玻璃等產品，基本上都是高精密的產品使用。

     硅溶膠拋光液又稱為二氧化硅拋光液，二氧化硅是硅溶膠的化學名稱，至今已經延伸到了半導體產品的拋光工序，平面研磨機可以將二氧化硅拋光液通過循環(huán)方式，導入磨盤中同樣起到潤滑冷卻的作用，可以將表面粗糙度達到0.2um以下，品質要求高的產品建議首選硅溶膠拋光液。

     硅溶膠拋光液具有去除率高的特點，可以達到0.9-1.2um/min的去除率，提高拋光產能，使用非常方便，可以直接使用無需兌水，拋光效果好，出光快，不劃算表面工件，不會產生發(fā)霧現(xiàn)象，鏡面拋光首選推薦硅溶膠拋光液。

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