二氧化硅拋光液主要的粒徑有20nm~200nm，粗糙度要做到0.02，選擇的拋光液在100nm即可達(dá)到，如果需要更精密的拋光效果，可以選擇100nm以下的拋光液。

      二氧化硅拋光液適合各類金屬或玻璃制品的拋光工序，3C制品表面拋光要求的精密度高，因此在鏡面收光工序廣泛應(yīng)用，拋光后需要用超聲波清洗，二氧化硅拋光液使用后表面容易結(jié)晶，清洗動作必須在使用完成后立即去做，保證金屬拋光后表面的清潔度，正常使用拋光液在機(jī)內(nèi)循環(huán)不會結(jié)晶，所以清洗的環(huán)節(jié)非常重要。                                                     

      二氧化硅拋光液使用后用粗糙度儀器檢測表面效果，粗糙度測試0.022，符合鏡面拋光要求，一般的氧化鋁拋光液粗糙度在0.08左右，適合中拋，鏡面拋光選擇二氧化硅拋光液拋光效率高，表面效果更精密，現(xiàn)在的電子產(chǎn)品表面要求也是越來約高，如果要打磨出標(biāo)準(zhǔn)的效果，可以選擇拋光液定制服務(wù)，根據(jù)表面效果科學(xué)配比，效率高效果好！                                                                                     

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