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平磨機拋表殼的精拋鏡面效果

作者: 振鴻興 編輯: 振鴻興 來源: 振鴻興 發(fā)布日期: 2024.05.18
信息摘要:
在鐘表制造和高端飾品加工中,表殼的拋光處理至關(guān)重要,直接影響到產(chǎn)品的外觀和品質(zhì)。平磨機是實現(xiàn)高精度拋光的常用設(shè)備之一,通過合理選擇和使用不同…

 粗拋階段

      粗拋階段的目的是快速去除表殼表面的粗糙和劃痕,為后續(xù)的精拋打下基礎(chǔ)。選擇適當(dāng)?shù)拇謷亽伖庖河葹橹匾T谶@個階段,推薦使用較粗粒徑的氧化鋁或碳化硅拋光液。

推薦粒徑:

  • 15-20μm 氧化鋁拋光液  :這種粒徑的拋光液顆粒較大,具有較強的切削力,能夠迅速去除表面的粗糙和明顯的劃痕。
  • 20-30μm的碳化硅拋光液:碳化硅的硬度較高,適用于硬質(zhì)金屬表殼的粗拋,可以有效去除深層劃痕。

中拋階段

      中拋階段的目的是進一步細化表面,使其更加平滑,為最終的精拋做好準備。此階段應(yīng)選擇較細粒徑的拋光液。振鴻興氧化鋁拋光液

推薦粒徑:

  • 10-15μm氧化鋁拋光液:相比粗拋,這種粒徑的拋光液顆粒更細,能夠有效去除粗拋留下的細小劃痕和瑕疵,平整表面。
  • 15-20μm的碳化硅拋光液:適用于較硬表殼材料的中拋,能夠進一步提升表面平滑度。

精拋階段

      精拋階段的目的是實現(xiàn)表殼的高光澤和鏡面效果。這是最關(guān)鍵的階段,需要使用最細粒徑的拋光液。

推薦粒徑:

  • 0.5-3μm的金剛石拋光液:金剛石拋光液具有極高的硬度和細度,能夠提供最優(yōu)的鏡面效果,適用于各種材質(zhì)的表殼。
  • 1-3μm氧化鋁拋光液:在金剛石拋光液之前使用這種粒徑的氧化鋁拋光液,可以進一步細化表面,提高光潔度。

拋光液的選擇與使用建議

  1. 氧化鋁拋光液:適用于大多數(shù)金屬和非金屬表殼的拋光,具有較高的性價比。在粗拋和中拋階段表現(xiàn)出色。
  2. 碳化硅拋光液:適用于硬質(zhì)金屬的拋光,如不銹鋼和鈦合金表殼,切削力強,效率高。
  3. 金剛石拋光液:適用于最終的精拋階段,能夠提供最高的光潔度和鏡面效果,適合高端產(chǎn)品的拋光需求。

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